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無機納米顆粒改性纖維漿液研磨分散機

無機納米顆粒改性纖維漿液研磨分散機,GMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

  • 產品型號:GMD2000
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-09-18
  • 訪  問  量:1825
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產品詳情

無機納米顆粒改性纖維漿液研磨分散機,芳綸涂覆的鋰電池復合隔膜研磨分散機,二氧化硅分散液分散機

SGN研磨分散機能夠實現(xiàn)自動控制,且操作簡單方便,機器運行很穩(wěn)定。機器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到*的清洗。

上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。SGN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質等功能,設備轉速可達14000rpm,是目前普通設備轉速的4-5倍。

 

GMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出結果產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

 

鋰電池作為新型的二次電池,具有高能量密度、循環(huán)壽命長等優(yōu)點,其應用范圍不斷擴展,被大量應用于便攜式電子裝置、電動工具、儲能和動力汽車中,尤其隨著新能源行業(yè)的快速發(fā)展,鋰電池被越來越多的應用到動力汽車中。然而,頻繁發(fā)生的鋰電池安全事故日益引起了人們的廣泛關注。其中,隔膜作為鋰電池的重要組成部分,可以有效防止正、負極接觸發(fā)生短路,對鋰電池的安全性具有非常重要的影響,因此,鋰電池性能的提升及安全性要求對隔膜的性能有著更高的要求。

聚烯烴隔膜是目前使用廣泛的鋰電池隔膜,但是,市場上現(xiàn)有的聚烯烴隔膜存在熱收縮率大和親電解液不足的問題。為了改善聚烯烴隔膜的耐熱性和電解液浸潤性,目前主要的解決方案是在聚烯烴隔膜的單面或雙面涂覆涂層,這種涂層在一定程度上可以改善隔膜的熱穩(wěn)定性,同時與電解液有良好的浸潤性。隨著鋰電池的發(fā)展,對其能量密度要求越來越高,導致電池內部環(huán)境越來越苛刻,普通的無機涂層不能達到高溫(大于150攝氏度)條件下的熱穩(wěn)定性能,因此尋求下一代熱穩(wěn)定性能優(yōu)異的隔膜就成了當務之急。

芳綸以其高強度、高模量、耐化學腐蝕的特性,被廣泛應用于航空航天、電器和特種品開發(fā)等領域,其分解的溫度可達590℃,能大大提高電池的耐熱性和安全性能。然而,芳綸樹脂難溶難熔,只能溶解在濃硫酸中,工藝復雜,設備要求耐強酸腐蝕,加工比較困難,從而限制了芳綸材料的應用領域。

制備芳綸涂覆的鋰電池隔膜時,多直接使用DMAC、DMF、NMP、DMSO等有機溶劑配合助溶劑溶解芳綸纖維制備芳綸溶解液,然后添加成孔劑得芳綸漿料,使涂覆膜浸凝固液固化,Z后經水洗、烘干制得芳綸涂覆鋰電池隔膜。該方法仍存在以下問題:

1、芳綸纖維需加熱溶解,該過程會導致芳綸漿料引入雜質較多,部分芳綸纖維分解,造成耐熱性及機械性能變差;

2、現(xiàn)有的芳綸涂層對鋰電池隔膜的耐高溫性能改善有限;

3、現(xiàn)有的芳綸涂層易形成致密孔而影響透氣性。

 

從設備角度來分析,影響分散效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結構(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)

 

線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
SGN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉子直徑)X 轉速 RPM  /   60

 所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個關鍵因素,研磨分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的

 

GMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節(jié)到允許量的

 

無機納米顆粒改性纖維漿液研磨分散機,芳綸涂覆的鋰電池復合隔膜研磨分散機,二氧化硅分散液分散機

 

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