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北京納米二氧化硅分散液研磨分散機

北京納米二氧化硅分散液研磨分散機,思峻(SGN)研磨分散機設(shè)計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。

  • 產(chǎn)品型號:GMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-09-17
  • 訪  問  量:2139
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產(chǎn)品詳情

一、產(chǎn)品名稱概述:

北京納米二氧化硅分散液研磨分散機,ox50納米氧化硅分散液分散機,連續(xù)式研磨分散機,改進型膠體磨研磨分散機

二、基本和物料介紹:

1.思峻SGN)研磨分散機設(shè)計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。

2.二氧化硅水分散體在拋光應(yīng)用(CMP)、紙業(yè)(噴墨)或在玻璃生產(chǎn)中使用。出于經(jīng)濟和實際應(yīng)用原因,在這些應(yīng)用中使用具有高二氧化硅粉末含量的分散體是理想的。

3.含有火焰水解反應(yīng)工藝生產(chǎn)的二氧化硅并且不含穩(wěn)定劑的水分散體僅在填充含量低于30重量%時表現(xiàn)出可接受的穩(wěn)定性。當(dāng)填充含量更高時,其在非常短的時間內(nèi)發(fā)生凝結(jié)或沉降。

4.納米二氧化硅具有小的粒徑、較大的比表面積和優(yōu)良的化學(xué)性能,表現(xiàn)出良好的親水性、補強性、增稠性、消光性和防茹結(jié)性,因此廣泛應(yīng)用于橡膠、涂料、醫(yī)藥、油墨等領(lǐng)域。由于粉體的納米二氧化硅的表面親水疏油,呈強極性,在有機介質(zhì)中難以均勻分散,從而導(dǎo)致材料性能下降。

5.現(xiàn)有技術(shù)中,通常是在納米顆粒膠體物系中加入電解質(zhì)、表面活性劑、聚電解質(zhì),使之吸附在顆粒表面是防止納米顆粒團聚生長的有效方法,這樣可以提高二氧化硅分散液的穩(wěn)定性。但總體說來,通過加入電解質(zhì)、表面活性劑、聚電解質(zhì)作用針對分散相,并未實質(zhì)與納米二氧化硅顆粒結(jié)合,因此導(dǎo)致其制備的分散液的分散性均不理想。

6.納米二氧化硅分散到液體之后,依據(jù)不同的分散體系,其外觀從白色乳狀到無色透明。從檢測上來看D90<100納米以下的體系,在外觀上都呈現(xiàn)視覺透明的狀態(tài)。納米的分散是一個世界性的技術(shù)難題。可喜的是目前出現(xiàn)了某些技術(shù),使用某些納米顆粒可以解散到單分散的狀態(tài)。其中之一就有納米二氧化硅。

三、設(shè)備介紹: 

1.上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) SGN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

2.研磨分散機的特點:

①線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

 

②定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

⑤高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

3.設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

4.從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

①研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

②研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

③研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

④物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

⑤循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

5.線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
              g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

四、二氧化硅高速研磨分散機參數(shù)表:

  流量*

  

  輸出

  

  線速度

  

  功率

  

  入口/出口連接

  

  類型

  

  l/h

  

  rpm

  

  m/s

  

  kW

  

  

  GMD 2000/4

  

  300

  

  9,000

  

  23

  

  2.2

  

  DN25/DN15

  

  GMD 2000/5

  

  3000

  

  6,000

  

  23

  

  7.5

  

  DN40/DN32

  

  GMD 2000/10

  

  8000

  

  4,200

  

  23

  

  22

  

  DN80/DN65

  

  GMD 2000/20

  

  20000

  

  2,850

  

  23

  

  37

  

  DN80/DN65

  

  GMD 2000/30

  

  40000

  

  1,420

  

  23

  

  55

  

  DN150/DN125

  

  GMD2000/50

  

  120000

  

  1,100

  

  23

  

  110

  

  DN200/DN150

  

  *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大量的10%。

  

  1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

  2 處理量取決于物料的粘度,稠度和ZUI終產(chǎn)品的要求。

 

北京納米二氧化硅分散液研磨分散機,ox50納米氧化硅分散液分散機,連續(xù)式研磨分散機,改進型膠體磨研磨分散機

 

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