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GMD2000甘草粉超細(xì)濕法膠體磨,SGN研磨機(jī)效率高、輕便、整機(jī)模塊結(jié)構(gòu),操作方便,可長時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn),輕松滿足多種高要求的分散乳化實(shí)驗(yàn)??稍趯?shí)驗(yàn)室模擬在線工況進(jìn)行循環(huán)或在線連續(xù)處理,具有高效均質(zhì)無分散死角等
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SGN研磨機(jī)效率高、輕便、整機(jī)模塊結(jié)構(gòu),操作方便,可長時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn),輕松滿足多種高要求的分散乳化實(shí)驗(yàn)??稍趯?shí)驗(yàn)室模擬在線工況進(jìn)行循環(huán)或在線連續(xù)處理,具有高效均質(zhì)無分散死角等
甘草具有抗炎、抗bian態(tài)反應(yīng)的作用,這主要來自于甘草酸銥--甘草酸及甘草次酸鹽,還能抑制毛細(xì)血管通透性。腎上腺皮質(zhì)激素樣作用,甘草具有鹽皮質(zhì)甾醇樣作用和糖皮質(zhì)類甾醇樣作用。其激素樣作用的原理,有人認(rèn)為是甘草次酸的化學(xué)結(jié)構(gòu)與腎上腺皮質(zhì)激素有相似之點(diǎn),是一種直接作用,但也有人認(rèn)為是間接作用,即甘草次酸抑制了腎上腺皮質(zhì)甾醇類在體內(nèi)的破壞,因而血中含量相應(yīng)增加。同時(shí),甘草黃銅還有抑制酪氨酸酶活性、清除氧目由基,其抗氧化能力與維生素E比較接近
客戶原始樣品120目,希望通過高剪切研磨機(jī)能夠達(dá)到10微米以下,思峻給出了兩種方案,一種采用GMSD2000/4濕法高剪切研磨機(jī)12000rpm轉(zhuǎn)速下一遍兩遍測試效果;第二種采用思峻推出的GR4000/4高速濕法分散機(jī),線速度66m/s,21000rpm轉(zhuǎn)速下一遍兩遍測試效果。目測效果是很明顯的,客戶也是比較滿意.
上海思峻的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。SGN研磨分散機(jī)可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。
根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,思峻公司在GRS2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出GR2000高速剪切乳化機(jī)機(jī)。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到66m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng),乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度高,無需其他輔助分散設(shè)備,可以達(dá)到普通的高壓均質(zhì)機(jī)的400BAR壓力下的顆粒大小.
濕法研磨機(jī)的特點(diǎn):
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn):
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)
線速度的計(jì)算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素,高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的
設(shè)備其它參數(shù):
設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無菌級(jí)
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
GMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
價(jià)格電議 孫:,公司有樣機(jī)可實(shí)驗(yàn)!,歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)!SGN銷售工程師會(huì)根據(jù)客戶具體需求做適當(dāng)?shù)脑O(shè)備選型,以及根據(jù)流量做型號(hào)相應(yīng)放大!
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